特許
J-GLOBAL ID:200903017095815010

空隙型インクジェット受像層、インクジェット記録材料及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-008563
公開番号(公開出願番号):特開2003-211825
出願日: 2002年01月17日
公開日(公表日): 2003年07月30日
要約:
【要約】【課題】 短時間に、低コストで高濃度の塗布液を調製することが可能で、インク吸収量が大きい高空隙型インクジェット受像層を提供することであり、それにより優れたインクジェット記録材料を提供することである。【解決手段】 一次粒子径が5〜20nmである気相法シリカからなる粒子とカチオン性コロイダルシリカからなる粒子を含有し、光散乱法により測定された粒子径が50〜1000nmである粒子を含有する塗布液を用いて形成されたことを特徴とする空隙型インクジェット受像層。
請求項(抜粋):
一次粒子径が5〜20nmである気相法シリカからなる粒子とカチオン性コロイダルシリカからなる粒子を含有し、光散乱法により測定された粒子径が50〜1000nmである粒子を含有する塗布液を用いて形成されたことを特徴とする空隙型インクジェット受像層。
IPC (2件):
B41M 5/00 ,  B41J 2/01
FI (2件):
B41M 5/00 B ,  B41J 3/04 101 Y
Fターム (7件):
2C056EA05 ,  2C056FC06 ,  2H086BA15 ,  2H086BA33 ,  2H086BA41 ,  2H086BA45 ,  2H086BA46
引用特許:
審査官引用 (1件)

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