特許
J-GLOBAL ID:200903017146547325

複数領域紙構造並びにその製造装置及び製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-503277
公開番号(公開出願番号):特表平10-502422
出願日: 1995年06月19日
公開日(公表日): 1998年03月03日
要約:
【要約】比較的薄い領域を相互連結する移行領域を有する複数領域紙構造を開示する。この紙構造は、第1領域、パターンをなした第2領域、及び第3領域、及び移行領域を有する。移行領域は、パターンをなした第2領域をバックグラウンド母材に相互連結する。バックグラウンド母材は、第1領域及び第3領域からなる。第1領域は、第3領域に亘って分散された複数の離散した突起からなる。第1及び第2の領域は、異なる高さに配置されており、これらの領域の厚さは、移行領域よりも小さい。紙構造を製造するための装置及び方法も開示してある。
請求項(抜粋):
第1高さに配置された第1厚さを有する第1領域、 前記第1高さと異なる第2高さに配置された第2厚さを有する第2領域、 前記第1領域に相互連結されており、第3厚さを有し、第3高さを有する第3領域、及び 前記第2領域を前記第1及び第3領域のうちの少なくとも一方に相互連結する、第4厚さを有する第4移行領域を備えた紙構造において、 前記第4厚さは前記第1厚さよりも大きく、前記第4厚さは前記第2厚さよりも大きいことを特徴とし、前記第3厚さが前記第1厚さよりも大きいことを特徴とする紙構造。
IPC (3件):
D21H 27/02 ,  A47K 10/16 ,  D21F 7/08
FI (4件):
D21H 5/02 ,  A47K 10/16 C ,  A47K 10/16 D ,  D21F 7/08 Z
引用特許:
審査官引用 (8件)
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