特許

J-GLOBAL ID：200903017154463009

水素吸蔵材料、その製造方法、及びその使用方法

発明者： 梶浦 尚志 ,  角野 宏治 ,  村上 洋介 ,  筒井 栄光
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 逢坂 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-291735
公開番号（公開出願番号）：特開2004-122036
出願日： 2002年10月04日
公開日（公表日）： 2004年04月22日
要約：

【課題】常温での水素吸蔵及び放出を可能とし、実用的な水素吸蔵材料、その製造方法、及びその使用方法を提供すること。【解決手段】黒鉛などの炭素系物質が略真空中、特に10Pa以下で粉砕されることによって得られる炭素系材料からなる、水素吸蔵材料。前記略真空中において黒鉛などの炭素系物質を粉砕して炭素系水素吸蔵材料を得る、水素吸蔵材料の製造方法。黒鉛などの炭素系物質が前記略真空中で粉砕されることによって得られる炭素系材料からなる水素吸蔵材料を水素吸蔵材料として用いる、水素吸蔵材料の使用方法。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

炭素系物質が略真空中で粉砕されることによって得られる炭素系材料からなる、水素吸蔵材料。

IPC (5件)：

B01J20/20 ,  B01J20/30 ,  B01J20/34 ,  C01B31/02 ,  C01B31/04

FI (6件)：

B01J20/20 B ,  B01J20/30 ,  B01J20/34 E ,  C01B31/02 101B ,  C01B31/02 101F ,  C01B31/04 101B

Fターム (27件)：

4G066AA04B ,  4G066BA05 ,  4G066BA23 ,  4G066BA26 ,  4G066BA38 ,  4G066CA38 ,  4G066EA20 ,  4G066FA35 ,  4G066FA40 ,  4G066GA14 ,  4G066GA32 ,  4G066GA33 ,  4G140AA22 ,  4G140AA48 ,  4G146AA02 ,  4G146AA11 ,  4G146AB01 ,  4G146AC05A ,  4G146AC07B ,  4G146AC08B ,  4G146AC12A ,  4G146AC13A ,  4G146AC14A ,  4G146AD32 ,  4G146BA02 ,  4G146BA04 ,  4G146CB09