特許
J-GLOBAL ID：200903017156075871
成膜装置および成膜方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
角田 嘉宏 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-288312
公開番号（公開出願番号）：特開2003-096559
出願日： 2001年09月21日
公開日（公表日）： 2003年04月03日
要約：
【要約】【課題】 基材の構成物質が膜へ拡散するのを防止しつつ基材を効果的に加熱することができ、かつ装置の低価格化および小型化を図ることが可能な成膜装置および成膜方法を提供する。【解決手段】 内部に対向するようにターゲット12と基材13とが配置された成膜装置100の真空チャンバ1内にレーザ光分配装置16を設けることにより、レーザ光発生器3から出射されたレーザ光20を基材13を加熱するためのレーザ光20aとターゲット12を蒸発させるためのレーザ光20bとに分配するものである。
請求項（抜粋）：
ターゲットを蒸発させて基材の表面に実質的にターゲットの材料からなる膜を形成する成膜装置であって、内部に前記ターゲットと前記基材とが配置される真空チャンバと、前記ターゲットを蒸発させるとともに前記基材を加熱するためのレーザ光を出射するレーザ光発生器と、前記レーザ光発生器から出射されたレーザ光を、前記基材を照射する第1のレーザ光と前記ターゲットを照射する第2のレーザ光とに分配するレーザ光分配手段とを備えた成膜装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/28
, C23C 14/24 K
