特許
J-GLOBAL ID：200903017165615781

不飽和二重結合を含有する含フッ素共重合体及びこれを含む組成物

発明者：
木村 幸代

木村 幸代 について

, 
大林 信夫

大林 信夫 について

, 
片山 光弘

片山 光弘 について


出願人/特許権者：
関東電化工業株式会社

関東電化工業株式会社 について


代理人 (5件)： 古谷 馨 ,  溝部 孝彦 ,  古谷 聡 ,  持田 信二 ,  義経 和昌
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-320867
公開番号（公開出願番号）：特開2004-155847
出願日： 2002年11月05日
公開日（公表日）： 2004年06月03日
要約：
【課題】塗膜としたときに低屈折率、高表面硬度を有し、且つ、防汚性、撥水撥油性、耐薬品性等に優れた特性を有する不飽和二重結合含有含フッ素共重合体を提供する。【解決手段】重合単位として、(a)フルオロオレフィン、(b)特定の反応性シリコーン、(c)特定の水酸基含有不飽和エーテル及び(d)特定のフッ素含有(メタ)アクリル酸エステルとを含み構成される水酸基含有含フッ素共重合体[A]に、不飽和イソシアネート[B]を反応させることにより生成される不飽和二重結合含有含フッ素共重合体。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
重合単位として、(a)フルオロオレフィン、(b)下記一般式(1)若しくは(2)で示される反応性シリコーン、(c)下記一般式(3)で示される水酸基含有不飽和エーテル及び(d)下記一般式(4)で示されるフッ素含有(メタ)アクリル酸エステルとを含み構成される水酸基含有含フッ素共重合体[A]に、不飽和イソシアネート[B]を反応させることにより生成される不飽和二重結合を含有する含フッ素共重合体。 R1-[Si(CH3)2-O]n-Si(CH3)2-R2 (1) (ここで、R1は炭素数1〜6のアルキル基あるいは-(CH2)r-OOC(CH3)C=CH2あるいは-(CH2)r-OOCHC=CH2あるいは-CH=CH2を示す。R2は-(CH2)r-OOC(CH3)C=CH2あるいは-(CH2)r-OOCHC=CH2あるいは-CH=CH2を示す。nは1〜420の整数、rは1〜6の整数を示す。) R2-Si[OSi(CH3)3]3 (2) CH2=CH(CH2)m-O-R3-OH (3) (ここで、R3は炭素数1〜6のアルキレン基あるいはシクロヘキシル基を示す。mは0〜10の整数を示す。) CH2=CR4(COO)s(CH2)t-R5 (4) (ここで、R4は水素原子あるいはメチル基、R5は炭素数1〜18のパーフルオロアルキル基あるいはハイドロフルオロアルキル基を示す。sは0または1、tは0〜6の整数を示す。)
IPC (2件)：
C08G18/62 ,  C08F290/00
FI (2件)：
C08G18/62 ,  C08F290/00
Fターム (36件)：
4J027AB01 ,  4J027AG01 ,  4J027AG02 ,  4J027AG06 ,  4J027AG10 ,  4J027BA07 ,  4J027BA08 ,  4J027CD08 ,  4J034BA03 ,  4J034DA01 ,  4J034DB03 ,  4J034DB05 ,  4J034DB07 ,  4J034DC50 ,  4J034DD11 ,  4J034DM01 ,  4J034DP03 ,  4J034DP15 ,  4J034DP20 ,  4J034GA03 ,  4J034GA47 ,  4J034GA50 ,  4J034HA01 ,  4J034HA07 ,  4J034HC03 ,  4J034HC12 ,  4J034HC17 ,  4J034HC22 ,  4J034HC46 ,  4J034HC52 ,  4J034HC61 ,  4J034HC67 ,  4J034HC71 ,  4J034HC73 ,  4J034RA07 ,  4J034RA17
引用特許：
審査官引用 (4件)
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