特許
J-GLOBAL ID:200903017168510751

光導波路の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大野 精市
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-016179
公開番号(公開出願番号):特開平8-211432
出願日: 1995年02月02日
公開日(公表日): 1996年08月20日
要約:
【要約】【目的】 大きな非線形光学効果を持つ材料を目的とする部分にのみ使用した光非線形導波路を作製することを目的とする。【構成】 本発明では、導波路の所望の部分のみに選択的に大きな非線形性を持たせ、それ以外の導波路部分での吸収損失を低減させることを考えた。つまり、光照射により金属超微粒子を析出させる材料を導波路に適用する。導波路の所望の部分に特定波長の光を照射することにより、該照射した部分に金属超微粒子を析出させ、該析出部分の非線形性を増大させ、それ以外の部分では吸収損失を低減させたことを特徴とする。
請求項(抜粋):
光を導波するコア領域と該領域の周りに該領域より屈折率の低いクラッド領域を設けてなる光導波路の製造方法において、前記コア領域には光分解によってその非線形光学特性が変化する材料を含有させ、前記コア領域の一部分にレーザ光を照射することを特徴とする光導波路の製造方法。
IPC (3件):
G02F 1/35 503 ,  G02B 6/13 ,  G02B 6/12
FI (2件):
G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 H

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