特許

J-GLOBAL ID：200903017211310796

フォトマスクブランク

発明者： 西山 泰史 ,  田中 啓司 ,  福原 信彦 ,  大嶋 敬 ,  対比地 武博
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-242043
公開番号（公開出願番号）：特開平6-095362
出願日： 1992年09月10日
公開日（公表日）： 1994年04月08日
要約：

【要約】【目的】フォトマスクブランクが、低応力の遮光膜を容易に安定して得ることができ、且つフォトマスクブランクとしての他の特性を損なうことがない、というフォトマスクブランクを提供する。【構成】透明基板上に遮光性膜を有するフォトマスクブランクにおいて、前記遮光性膜がクロム、タングステン、および窒素を含有し、それぞれの含有率が原子数百分率で40乃至80%、0.1乃至15%、そして5乃至40%であることを特徴とするフォトマスクブランクである。

請求項（抜粋）：

透明基板上に遮光性膜を有するフォトマスクブランクにおいて、該遮光性膜がクロム、タングステン、および窒素を含有し、それぞれの含有率が原子数百分率で40乃至80%、0.1乃至15%、そして5乃至40%であることを特徴とするフォトマスクブランク。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027