特許
J-GLOBAL ID:200903017211438628

試料照射装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 木村 高久
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-070538
公開番号(公開出願番号):特開2001-290081
出願日: 2001年03月13日
公開日(公表日): 2001年10月19日
要約:
【要約】【課題】その配置が簡素であり、各誘導ビーム経路用の光学素子の数を削減することができるような試料照射装置を提供する。【解決手段】本発明は、好ましくは共焦点蛍光走査型顕微鏡法において、1つの光源(3)の1つの照射ビーム経路(2)およびさらに別の光源(5)の少なくとも1つのさらに別の照射ビーム経路(4)を有する試料(1)を照射する装置に関する。照射ビーム経路における配置を簡素にし、光学素子を削減するために、少なくとも1つの光学素子(7)が照射ビーム経路(2,4)の少なくとも一方に配置され、光学素子(7)が光を変性するようになっている。
請求項(抜粋):
好ましくは共焦点蛍光走査型顕微鏡法において、1つの光源(3)の1つの照射ビーム経路(2)およびさらに別の光源(5)の少なくとも1つのさらに別の照射ビーム経路(4)を有し、前記照射ビーム経路(2,4)が互いに少なくとも部分的に重なり合うことができるような試料(1)を照射する装置であって、少なくとも1つの光学素子(7)が前記照射ビーム経路(2,4)の少なくとも一方に配置され、光を変性することと、試料領域における前記照射ビーム経路(2,4)の照射パターンが形状を変形するように、前記素子(7)の光学特性が影響を受けるまたは変性されることと、を特徴とする装置。
IPC (3件):
G02B 21/06 ,  G01N 21/64 ,  G02B 21/00
FI (3件):
G02B 21/06 ,  G01N 21/64 E ,  G02B 21/00
引用特許:
出願人引用 (3件)
  • 顕微鏡におけるアダプティブ光学装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平10-214675   出願人:カールツァイスイエナゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
  • 特開昭56-137324
  • レーザ走査型顕微鏡
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-102006   出願人:オリンパス光学工業株式会社
審査官引用 (3件)
  • 顕微鏡におけるアダプティブ光学装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平10-214675   出願人:カールツァイスイエナゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
  • 特開昭56-137324
  • 特開昭56-137324

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