特許
J-GLOBAL ID：200903017234392749

薄膜磁気ヘッドの製造方法

発明者：
関 高輝

関 高輝 について

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山倉 英雄

山倉 英雄 について

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田村 利夫

田村 利夫 について

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高倉 昭雄

高倉 昭雄 について

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田中 幸治

田中 幸治 について


出願人/特許権者：
株式会社日立グローバルストレージテクノロジーズ

株式会社日立グローバルストレージテクノロジーズ について


代理人 (1件)： 井上 学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-266340
公開番号（公開出願番号）：特開2006-344381
出願日： 2006年09月29日
公開日（公表日）： 2006年12月21日
要約：
【課題】 面記録密度100Gbit/in2の磁気ディスク装置に搭載するMRヘッドでは、MR素子高さ精度を±0.02mm以下、浮上面の形状精度を±2nm以下が要求される。【解決手段】 上記課題は、スライダ形態で仕上げ研磨加工を行い、スライダ内に形成されている抵抗検知素子の抵抗値をインプロセスで検出し、検出した抵抗値または抵抗値から換算したMR素子高さ寸法が所定の値に達した場合に研磨加工を停止することで解決することができる。【選択図】図11
請求項（抜粋）：
基板上に絶縁膜を形成した後、該絶縁膜上に磁気記録媒体からの磁気信号を再生するための第1の磁気抵抗効果素子と研磨加工量を計測するための第2の磁気抵抗効果素子とを隣接して形成する素子形成工程と、前記第1の磁気抵抗効果素子と前記第2の磁気抵抗効果素子とを対にしてひとつのスライダに切断するスライダ分割工程と、前記第1の磁気抵抗効果素子と前記第2の磁気抵抗効果素子とが形成された面に対して直交する前記基板の面を研磨して浮上面となす研磨工程とを備え、該研磨工程は前記第2の磁気抵抗効果素子の抵抗値を測定し、該第2の磁気抵抗効果素子が所定の抵抗値に達したときに前記浮上面の研磨加工をスライダ毎に終了させることを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
IPC (2件)：
G11B 5/39 ,  G11B 5/60
FI (3件)：
G11B5/39 ,  G11B5/60 C ,  G11B5/60 U
Fターム (7件)：
5D034DA02 ,  5D034DA04 ,  5D034DA07 ,  5D042NA02 ,  5D042PA01 ,  5D042PA08 ,  5D042RA02
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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