特許

J-GLOBAL ID：200903017247305810

ビーム合成装置、マルチビーム光源装置及びマルチビーム走査装置

発明者： 山口 勝己
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 柏木 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-263076
公開番号（公開出願番号）：特開平11-352428
出願日： 1998年09月17日
公開日（公表日）： 1999年12月24日
要約：

【要約】【課題】 高効率にして光利用効率を各光ビーム間で均一化し得る簡易な構成の4ビーム以上のビーム合成装置を提供する。【解決手段】 n本の光ビームBM1 ,...,BMn を偏光ビームスプリッタ面PBSを含む第1のビーム合成手段S1により微少な光損失で列状のm(=n/2)本の光ビームに合成する。互いに平行に列状に並設された(m-1)面のビームスプリッタ面BS1 ,...,BSm-1 と1面の反射面Mとを有し、各ビームスプリッタ面BSi の各反射率Ri 及び透過率Ti が、実質的に、R2 =T1 /R1 (又はR2 =R1 /T1 )Ri =Ri-1 /Ti-1 (但し、i=3,...,m-1)Rm-1 =Tm-1なる条件を満たすように設定された第2のビーム合成手段S2でm本の光ビームをさらに合成することで、被合成ビーム1(又は、被合成ビーム2)における各光ビーム間の合成前後の光量比が均一となるようにした。

請求項（抜粋）：

n(n≧4)本の偏光特性を有する光ビームを合成するビーム合成装置であって、少なくとも1面の偏光ビームスプリッタ面を含み、入射したn本の光ビームを列状のm本の光ビームに合成する第1のビーム合成手段(但し、nが偶数の場合はm=n/2、nが奇数の場合はm=(n+1)/2)と、互いに平行に列状に並設された(m-1)面のビームスプリッタ面と1面の反射面とを有し、前記第1のビーム合成手段から出射されるm本の光ビームを実質的に1本の光ビームに合成する第2のビーム合成手段とを備え、n本の光ビームについてビーム合成前後の各光ビームの光量比が各ビーム間で略均一となるように前記(m-1)面のビームスプリッタ面の透過率及び反射率が設定されているビーム合成装置。

IPC (3件)：

G02B 26/10 ,  B41J 2/44 ,  G02B 27/28

FI (3件)：

G02B 26/10 B ,  G02B 27/28 Z ,  B41J 3/00 D

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭62-254115
  
• 特開昭61-056316
  
• レーザー光源のビーム合成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-219662   出願人：旭光学工業株式会社
• 特開平1-210917