特許

J-GLOBAL ID：200903017247460450

強誘電体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法

発明者： 森 暁
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社
代理人 (1件)： 富田 和夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-040860
公開番号（公開出願番号）：特開平9-235667
出願日： 1996年02月28日
公開日（公表日）： 1997年09月09日
要約：

【要約】【課題】 高電力でスパッタリングしても剥離および割れが発生することのない強誘電体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供する。【解決手段】 S含有量を50ppm以下のBaCO3 粉末、SrCO3 粉末およびTiO2 粉末を使用してBaTi複合酸化物、SrTi複合酸化物およびBaSrTiの複合酸化物からなる強誘電体膜形成用スパッタリングターゲットを製造し、得られたBaTi複合酸化物、SrTi複合酸化物およびBaSrTiの複合酸化物からなる強誘電体膜形成用スパッタリングターゲットのS含有量を50ppm以下に限定したことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

S含有量が50ppm以下のBaおよびTiの複合酸化物からなるペロブスカイト構造を有する強誘電体膜形成用スパッタリングターゲット。

IPC (6件)：

C23C 14/34 ,  C04B 35/46 ,  C04B 35/645 ,  H01L 21/316 ,  H01L 27/108 ,  H01L 21/8242

FI (5件)：

C23C 14/34 A ,  H01L 21/316 Y ,  C04B 35/46 C ,  C04B 35/64 302 Z ,  H01L 27/10 651

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭59-199504
  
• 特開昭63-100149
  
• 特開昭61-223142