特許

J-GLOBAL ID：200903017266574229

ハイドレート製造方法及びその製造装置

発明者： 西崎 進治 ,  国府田 康雄 ,  立花 淳 ,  平岡 龍三
出願人/特許権者： 石川島播磨重工業株式会社
代理人 (1件)： 山田 恒光 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-247610
公開番号（公開出願番号）：特開2001-072615
出願日： 1999年09月01日
公開日（公表日）： 2001年03月21日
要約：

【要約】【課題】 ハイドレートを効率良く生成する。【解決手段】 水を冷却して氷水スラリを製造する氷水スラリ製造器5と、氷水スラリと炭化水素ガスを攪拌してハイドレートを生成する反応器11,16と、ハイドレートから未反応の水を多分に分離する水分離器19と、ハイドレートにスラリ媒体を加えてスラリ状ハイドレートにし且つ該スラリ状ハイドレート中に残っている未反応の水をハイドレートにするよう炭化水素ガスと反応させて未反応の水を完全に除去する反応器46と、スラリ状ハイドレートを所定温度に冷却するスラリ調整器52と、スラリ状ハイドレートを所定温度に保ちつつ略常圧にまで減圧する減圧器63とを備える。

請求項（抜粋）：

水を冷却して氷水スラリとし、該氷水スラリと炭化水素ガスを攪拌してハイドレートを生成し、該ハイドレートから未反応の水を多分に分離し、ハイドレートを所定温度に冷却し、該所定温度を保ちつつ略常圧にまで減圧することを特徴とするハイドレート製造方法。

IPC (5件)：

C07C 7/20 ,  C07C 5/00 ,  C07C 9/04 ,  C10L 3/10 CSK ,  F17D 1/04

FI (5件)：

C07C 7/20 ,  C07C 5/00 ,  C07C 9/04 ,  F17D 1/04 ,  C10L 3/00 CSK D

Fターム (17件)：

3J071AA12 ,  3J071AA23 ,  3J071BB02 ,  3J071CC01 ,  3J071DD21 ,  3J071DD36 ,  3J071EE01 ,  3J071EE24 ,  3J071EE27 ,  3J071FF16 ,  4H006AA02 ,  4H006AA04 ,  4H006AD15 ,  4H006BA73 ,  4H006BB31 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11