特許
J-GLOBAL ID：200903017266713504
反射防止層およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
泉名 謙治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-026190
公開番号（公開出願番号）：特開平6-067019
出願日： 1992年01月17日
公開日（公表日）： 1994年03月11日
要約：
【要約】【構成】ZrとSiからなるターゲットを用いて、アルゴンと酸素と窒素を雰囲気で反応性直流スパッタリングを行い、透明なZrとSiの酸窒化物膜を形成する。また、アルゴンと酸素と窒素の混合割合を変えることにより、屈折率が互いに異なる複数の透明膜を積層して、反射防止層を形成する。【効果】化学的耐久性に優れた反射防止層を高速で製造できる。
請求項（抜粋）：
2層以上の多層からなる反射防止層であって、そのうち少なくとも1層が、ジルコニウムおよびシリコンを含む窒化物または酸窒化物からなる透明膜であることを特徴とする反射防止層。
IPC (2件)：
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