特許

J-GLOBAL ID：200903017275182945

結晶質合成シリカ粉体及びこれを用いたガラス成形体

発明者： 山内 正一 ,  平川 祐一 ,  高畑 努
出願人/特許権者： 東ソー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-028914
公開番号（公開出願番号）：特開2001-220126
出願日： 2000年02月01日
公開日（公表日）： 2001年08月14日
要約：

【要約】【課題】工業的に利用価値の高い、OH基、Cl濃度が低く、結晶質の合成シリカ粉体、及びこの結晶質合成シリカ粉体を用いて得られるシリカガラス成形体を提供する。【解決の手段】CuKα線を用いて粉末X線回折法で測定した場合にクリストバライト結晶相の回折ピークを示し、OH基濃度が50ppm以下であり、かつCl濃度が50ppm以下である結晶質合成シリカ粉体及びこれを用いたガラス成形体を用いる。

請求項（抜粋）：

CuKα線を用いて粉末X線回折法で測定した場合にクリストバライト結晶相の回折ピークを示し、OH基濃度が50ppm以下であり、かつCl濃度が50ppm以下であることを特徴とする結晶質合成シリカ粉体。

IPC (2件)：

C01B 33/12 ,  C03B 20/00

FI (2件)：

C01B 33/12 B ,  C03B 20/00 D

Fターム (25件)：

4G014AH11 ,  4G072AA28 ,  4G072AA30 ,  4G072BB05 ,  4G072CC16 ,  4G072GG01 ,  4G072HH07 ,  4G072HH08 ,  4G072JJ03 ,  4G072LL01 ,  4G072LL02 ,  4G072MM01 ,  4G072MM28 ,  4G072MM36 ,  4G072MM38 ,  4G072PP17 ,  4G072QQ01 ,  4G072RR03 ,  4G072RR11 ,  4G072TT05 ,  4G072TT19 ,  4G072TT20 ,  4G072TT30 ,  4G072UU01 ,  4G072UU21