特許

J-GLOBAL ID：200903017277305750

エッジクリーナ

発明者： 野浜 祥二
出願人/特許権者： ソニー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-287551
公開番号（公開出願番号）：特開平8-124819
出願日： 1994年10月26日
公開日（公表日）： 1996年05月17日
要約：

【要約】【目的】 半導体製造工程におけるウエハへの回転塗布処理の後に、ウエハ外周部の塗膜を除去する処理において、確実に一定幅だけ形を崩さずに除去する。【構成】 エッジクリーナの構成を、ウエハステージの側部に配設されウエハWの径方向に移動自在となるよう支持されたバイト20と、作動時にこのバイト20を移動させ、このバイト20の刃先21をウエハW上の塗布膜Mの外周に切込ませ前記一定幅分だけウエハWの中心側に送るバイト駆動機構10とを備えた構成とし、機械的加工により塗膜Mを除去するようにする。

請求項（抜粋）：

半導体製造工程において、ウエハステージに吸着され回転塗布が行なわれたウエハの外周部の塗布膜を一定幅だけ除去するエッジクリーナであって、ウエハステージの側部に配設され少なくとも前記ウエハの外周部において径方向に移動自在となるよう支持されたバイトと、作動時にこのバイトを移動させ、このバイトの刃先を前記ウエハ上の塗布膜の外周に切込ませ前記一定幅分だけウエハの中心側に送るバイト駆動機構とを備えたことを特徴とするエッジクリーナ。