レジストベーキング装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：加藤朝道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-062036
公開番号（公開出願番号）：特開平8-236431
出願日： 1995年02月24日
公開日（公表日）： 1996年09月13日
要約：

【要約】【目的】基板上に塗布したレジストをホットプレートにてベーキング処理する場合に、基板の突き上げピン部に発生するレジスト膜の局部的な凹凸むらを防止する。【構成】ヒータ等の加熱手段を有する第1のホットプレート1内の昇降自在な昇降ピン3の先端部に当接して大きさが基板Wとほぼ等しい四角形状の金属板より成る第2のホットプレート4を設け、昇降ピン3の位置に対応する基板Wの表面に局部的な温度勾配が発生することを防ぎ、その部分に局部的なレジスト膜厚の凹凸異常が発生することを防止する。

請求項（抜粋）：

基板の搬送部を有し、レジストを塗布した基板をホットプレート上にて加熱処理するレジストベーキング装置において、上昇したときに搬送部からレジストを塗布した基板を載置し、下降した状態にあるときはホットプレートの所定温度に保持される昇降自在な第2のホットプレートを備えたことを特徴とするレジストベーキング装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/38 501

FI (2件)：

H01L 21/30 567 , G03F 7/38 501

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