特許

J-GLOBAL ID：200903017283542314

フォトリソグラフィ法及びその装置

発明者： パウフラー イェルク ,  ゼルトマン ロルフ ,  クック ハインツ
出願人/特許権者： フラオンホーファー ゲゼルシャフト ツール フェルデルング デル アンゲヴァンテン フォルシュング エー ファオ
代理人 (1件)： 森下 武一
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-503534
公開番号（公開出願番号）：特表平10-510932
出願日： 1996年04月25日
公開日（公表日）： 1998年10月20日
要約：

【要約】以下の工程を含むフォトリソグラフィ法。第1平面光モジュレータ(302a)上に第1パターンを作る工程、第1平面光モジュレータ(302a)は複数の画素を有し、第1パターン(100)は予め規定された数のアドレスされた画素により形成される;第2平面光モジュレータ(302b)上に第2パターン(102)を作る工程、第2平面光モジュレータ(302b)は複数の画素を有し、第2パターン(102)は第1パターン(100)又はその一部に対応するアドレスされた画素からなる第1領域(102a)と、この第1領域(100a)に隣接するアドレスされた画素からなる第2領域(102b)とを含む;第1及び第2パターン(100,102)を基板(316)の露光領域(314)上に投影する工程。

請求項（抜粋）：

以下の工程を備えていることを特徴とするフォトリソグラフィ法: a) 第1平面光モジュレータ(302a)上に第1パターン(100)を作る工程、第1平面光モジュレータ(302a) は複数の画素を有し、第1パターン(100)は予め規定された数のアドレスされた画素により形成される; b) 第2平面光モジュレータ(302b)上に第2パターン(102)を作る工程、第2平面光モジュレータ(302b)は複数の画素を有し、第2パターン(102)は第1パターン(100)又はその一部に対応するアドレスされた画素からなる第1領域(102a)と、この第1領域(100a)に隣接するアドレスされた画素からなる第2領域(102b)とを含む; c) 第1及び第2パターン(100,102)を基板の露光領域(314)上に投影する工程。

IPC (2件)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 515 A ,  H01L 21/30 528