荷電粒子ビーム装置及びその制御方法

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：岡本啓三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-161668
公開番号（公開出願番号）：特開平5-013037
出願日： 1991年07月02日
公開日（公表日）： 1993年01月22日
要約：

【要約】【目的】本発明は荷電粒子ビーム装置の改善に関し、被照射対象のステージ位置を初回ビーム走査時のみに限って読取り処理をすることなく、それを単位ビーム走査毎に読取り処理をして、ステージ移動速度を考慮した位置検出マークの検出処理をし、その露光処理等の高速化を図ることを目的とする。【構成】被照射対象17に荷電粒子ビーム11Aを照射する荷電粒子発生源11と、前記荷電粒子ビーム11Aを偏向する偏向手段12と、前記被照射対象17に設けられた位置検出マークMを検出する第1の検出手段13と、前記被照射対象17のステージ位置を検出する第2の検出手段14と、前記被照射対象17を移動する移動手段15と、前記荷電粒子発生源11,偏向手段12,第1,第2の検出手段13,14及び移動手段15の入出力を制御する制御手段16とを具備し、前記制御手段16が連続移動する被照射対象17のステージ位置に係る位置検出信号S1に基づいて前記偏向手段12に供給する偏向信号S2,S3の補正をすることを含み構成する。

請求項（抜粋）：

被照射対象(17)に荷電粒子ビーム(11A)を照射する荷電粒子発生源(11)と、前記荷電粒子ビーム(11A)を偏向する偏向手段(12)と、前記被照射対象(17)に設けられた位置検出マーク(M)を検出する第1の検出手段(13)と、前記被照射対象(17)のステージ位置を検出する第2の検出手段(14)と、前記被照射対象(17)を移動する移動手段(15)と、前記荷電粒子発生源(11),偏向手段(12),第1,第2の検出手段(13,14)及び移動手段(15)の入出力を制御する制御手段(16)とを具備し、前記制御手段(16)が連続移動する被照射対象(17)のステージ位置に係る位置検出信号(S1)に基づいて前記偏向手段(12)に供給する偏向信号(S2,S3)の補正をすることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。

IPC (3件)：

H01J 37/305 , H01J 37/147 , H01L 21/66

引用特許：

審査官引用 (16件)

特開昭62-229940
特開昭62-229940
特開昭56-157027

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