特許

J-GLOBAL ID：200903017309207659

積層磁性膜およびそれを用いた磁気ヘツドならびに磁気記録・再生装置

発明者： 藤原 英夫 ,  光岡 勝也 ,  杉田 愃
出願人/特許権者： 日立マクセル株式会社 ,  株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 武 顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-091017
公開番号（公開出願番号）：特開平5-291037
出願日： 1992年04月10日
公開日（公表日）： 1993年11月05日
要約：

【要約】【目的】 磁界感度の高い積層磁性膜ならびに磁気ヘツド(磁気記録・再生装置)を提供することにある。【構成】 少なくとも、第1の磁性膜5と第2の磁性膜5との間に第1の中間膜6が介在され、前記第2の磁性膜5と第3の磁性膜との間に第2の中間膜6が介在されて各磁性膜が積層してなる積層磁性膜において、前記各磁性膜5が磁気的にソフトな膜で構成されているとともに、前記第1の中間膜6の膜厚t1 と第2の中間膜6の膜厚t2 とが等しくない(t1 ≠t2 但し、中間膜6の膜厚tは0を含む)ことを特徴とするものである。

請求項（抜粋）：

少なくとも、第1の磁性膜と第2の磁性膜との間に第1の中間膜が介在され、前記第2の磁性膜と第3の磁性膜との間に第2の中間膜が介在されて各磁性膜が積層してなる積層磁性膜において、前記各磁性膜が磁気的にソフトな膜で構成されているとともに、前記第1の中間膜の膜厚t1 と第2の中間膜の膜厚t2 とが等しくない(t1 ≠t2 但し、中間膜の膜厚tは0を含む)ことを特徴とする積層磁性膜。

IPC (5件)：

H01F 10/12 ,  G11B 5/09 301 ,  G11B 5/147 ,  H01F 10/14 ,  H01F 10/16