特許
J-GLOBAL ID：200903017309884588
洗浄処理後の基板の乾燥処理装置用蒸気発生器
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
間宮 武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-092430
公開番号（公開出願番号）：特開平6-283495
出願日： 1993年03月26日
公開日（公表日）： 1994年10月07日
要約：
【要約】【目的】 洗浄処理後の基板の乾燥処理に際しスチームで基板を加熱するようにする基板乾燥処理装置に、清浄度の高いスチームを提供できるようにする。【構成】 純水供給源から供給された純水50と接触する給水室52の内壁面及び蒸発部54で発生した蒸気と接触する蒸気室56の内壁面にライニング74a、74bを施す。
請求項（抜粋）：
純水供給源に連通接続され純水供給源から供給された純水を貯留する給水室と、この給水室に連通した水路を有し給水室から供給された水路内の純水を加熱手段で加熱して蒸発させる蒸発部と、この蒸発部の前記水路に連通するとともに蒸気排出口に連通し蒸発部で発生した蒸気が充満する蒸気室とが一体に形設されてなり、洗浄槽内に収容された純水又は洗浄用薬液中に浸漬されてその純水又は洗浄用薬液中から引き上げられる基板に対しスチームを供給して基板を加熱し、その後にスチームの供給を停止して基板表面の付着水分を蒸発させるようにした基板の乾燥処理装置へ、基板加熱用の前記スチームを供給するため、そのスチームを生成する蒸気を発生する蒸気発生器において、少なくとも、純水と接触する前記給水室の内壁面及び蒸気と接触する前記蒸気室の内壁面にライニングを施したことを特徴とする、洗浄処理後の基板の乾燥処理装置用蒸気発生器。
IPC (2件)：
H01L 21/304 361
, F22B 37/22
