特許

J-GLOBAL ID：200903017328410929

パターン形成方法

発明者： 松岡 晃次
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 滝本 智之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-060751
公開番号（公開出願番号）：特開平8-264408
出願日： 1995年03月20日
公開日（公表日）： 1996年10月11日
要約：

【要約】【目的】 線幅精度を向上させて正確で安定したレジストパタ-ン形成する。【構成】 ウエハのセンター付近に現像終点検出専用パタ-ンを配置し、その部分に光を照射し、その反射光をモニターすることによって線幅を制御する。

請求項（抜粋）：

デバイスが形成されない領域を有するウエハ上にレジストを塗布する工程と、前記デバイスが形成されない領域に現像終点検出専用パターンを露光する工程と、前記レジストを現像するとともに前記現像終点検出専用パターンに光を照射してその反射光の光強度から前記レジストの現像終点検出を行なう工程と、前記現像終点検出の結果を基にして現像条件を制御して前記ウエハ上のデバイスが形成された領域のパターンを形成する工程とを有するパタ-ン形成方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30 501

FI (2件)：

H01L 21/30 569 G ,  G03F 7/30 501

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭54-012672
  
• 特開昭54-010677
  
• 特開昭58-070530
  
• 特開昭60-136278