特許
J-GLOBAL ID：200903017342689952
プラズマ処理装置、及びその洗浄方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-241001
公開番号（公開出願番号）：特開平8-107073
出願日： 1994年10月05日
公開日（公表日）： 1996年04月23日
要約：
【要約】【目的】本発明の目的は、マイクロ波導入窓を高速に洗浄することが可能であり、スループットが向上するプラズマ処理装置、及びその洗浄方法を提供するにある。【構成】マイクロ波導入窓4,4aを、ある隙間をあけて二重構造にし、大気圧に面する側は真空を仕切る強度に耐えるだけの厚みとし、プラズマに面する側は厚みを薄くし、この隙間に、クリーニングの工程で帯状電極12を差し込み、この電極をアースに接続するか、又は高周波電源に接続して、プラズマ中のイオン電流を引き込み、これにより、プラズマに面する側に付着した異物をイオン衝撃で物理的にエッチングすると同時に、プラズマ中のラジカルによる化学的エッチングを併用させて、高速にセルフクリーニングできるようにしたものである。
請求項（抜粋）：
プラズマを利用した化学的気相法により膜の堆積、又はエッチング等を行うプラズマ処理装置のマイクロ波導入窓の前記プラズマに面する側の表面を、前記プラズマに高周波エネルギを与えて洗浄するプラズマ処理装置の洗浄方法において、前記マイクロ波導入窓部を洗浄する際には、少なくとも二重構造に形成されている該マイクロ波導入窓の間に設置されたアース電極、又は高周波印加電極にプラズマ中のイオン電流が流れ込むことによりプラズマ中の荷電粒子を加速し、このプラズマ中の荷電粒子で、前記プラズマに面した窓部表面を物理的にエッチングするか、又は洗浄ガスのプラズマで行う化学的エッチングを併用して洗浄することを特徴とするプラズマ処理装置の洗浄方法。
IPC (4件)：
H01L 21/205
, C23F 1/08 101
, C23F 4/00
, H01L 21/3065
