特許

J-GLOBAL ID：200903017346218415

基板処理装置

発明者： 木▲崎▼ 幸治 ,  美作 昌宏
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 小野 由己男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-251579
公開番号（公開出願番号）：特開平7-106232
出願日： 1993年10月07日
公開日（公表日）： 1995年04月21日
要約：

【要約】【目的】 真空吸着により基板を保持する構成であっても基板処理部内を洗浄できるようにする。【構成】 スピンコータは、基板に1枚ずつフォトレジストを塗布する装置であって、基板保持部及び上部回転板を含む基板処理部と処理液供給部と上部回転板洗浄部と全体制御部とを備えている。基板処理部は、基板保持部の基板吸着部に吸着保持された基板に処理を施す。処理液供給部は、吸着保持された基板に処理液を供給する。上部回転板洗浄部は、基板処理部の上部回転板に洗浄液を供給する。全体制御部は、上部回転板洗浄部が上部回転板に洗浄液を供給する時に、基板吸着部をダミー基板により遮蔽するように、各部を制御する。

請求項（抜粋）：

基板を1枚ずつ処理液で処理する基板処理装置であって、前記基板を吸着保持する吸着保持領域を有し、吸着保持した基板を処理液で処理する基板処理部と、前記吸着保持領域で吸着保持された基板に処理液を供給する処理液供給手段と、前記基板処理部に洗浄液を供給する洗浄手段と、前記洗浄手段による洗浄液の供給時に、洗浄液が前記吸着保持領域に侵入するのを防止する遮蔽手段と、を備えた基板処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G02F 1/13 101 ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/304 341