特許

J-GLOBAL ID：200903017352016549

電子ビーム露光装置

発明者： 村木 真人 ,  後藤 進
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-101233
公開番号（公開出願番号）：特開平9-288991
出願日： 1996年04月23日
公開日（公表日）： 1997年11月04日
要約：

【要約】【課題】 空間電荷効果及び縮小電子光学系の収差の影響を低減して同時に露光できる露光領域を拡大して、スループットの高い電子ビーム露光装置を提供する。【解決手段】 電子ビームを放射する光源と被露光面に該光源の像を縮小投影する縮小電子光学系と、前記光源と前記縮小電子光学系の間に設けられ、前記縮小電子光学系の光軸に直交する方向に前記光源の中間像を複数形成し、各中間像が前記縮小電子光学系よって前記被露光面に縮小投影される際に発生する収差を予め補正する補正電子光学系を有する電子ビーム露光装置であって、前記補正電子光学系は、光源からの電子ビームを略平行にする電子光学系と、略平行となった前記電子ビームの一部から前記各中間像を形成するための複数の要素電子光学系とを有し、前記縮小電子光学系の像面湾曲に応じて、各前記要素電子光学系の主面位置が設定される。

請求項（抜粋）：

電子ビームを放射する光源と被露光面に該光源の像を縮小投影する縮小電子光学系と、前記光源と前記縮小電子光学系の間に設けられ、前記縮小電子光学系の光軸に直交する方向に前記光源の中間像を複数形成し、各中間像が前記縮小電子光学系よって前記被露光面に縮小投影される際に発生する収差を予め補正する補正電子光学系を有する電子ビーム露光装置において、前記補正電子光学系は、光源からの電子ビームを略平行にする電子光学系と、略平行となった前記電子ビームの一部から前記各中間像を形成するための複数の要素電子光学系とを有し、前記縮小電子光学系の像面湾曲に応じて、各前記要素電子光学系の主面位置が設定されることを特徴とする電子ビーム露光装置。

IPC (5件)：

H01J 37/305 ,  G03F 7/20 504 ,  G21K 5/04 ,  H01J 37/21 ,  H01L 21/027

FI (8件)：

H01J 37/305 B ,  G03F 7/20 504 ,  G21K 5/04 M ,  H01J 37/21 Z ,  H01L 21/30 541 B ,  H01L 21/30 541 E ,  H01L 21/30 541 M ,  H01L 21/30 541 J

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特開昭61-263217
  
• 特開昭60-042825
  
• 特開昭62-076619
  
• 特開昭59-184524