特許

J-GLOBAL ID：200903017354126279

処理システム及びこれを用いた露光装置およびデバイス製造方法

発明者： 藤岡 秀彦 ,  長谷川 隆行 ,  田中 裕
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 西山 恵三 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-112742
公開番号（公開出願番号）：特開2002-015989
出願日： 1994年05月16日
公開日（公表日）： 2002年01月18日
要約：

【要約】【課題】 チャンバ内の雰囲気の劣化を抑えると共に、チャンバに内蔵される処理装置の位置や姿勢の変化を抑える。【解決手段】 本発明の処理システムは、処理装置と、前記処理装置を内蔵し内部を気密に保ち得るチャンバと、前記チャンバを支持する支持手段と、前記処理装置を載置する架台と、前記チャンバの外部に設置され前記チャンバとは個別に前記架台を支持するエアマウントと、前記架台と前記チャンバとを気密に接続する弾性気密保持手段とを備えていることを特徴とする。エアマウントをチャンバの外部に設置してチャンバ内の雰囲気の劣化を抑え、弾性気密保持手段を解することによりチャンバの変形が処理装置の位置や姿勢に与える影響を軽減させる。

請求項（抜粋）：

処理装置と、前記処理装置を内蔵し内部を気密に保ち得るチャンバと、前記チャンバを支持する支持手段と、前記処理装置を載置する架台と、前記チャンバの外部に設置され、前記チャンバとは個別に、前記架台を支持するエアマウントと、前記架台と前記チャンバとを気密に接続する弾性気密保持手段とを備えていることを特徴とする処理システム。

IPC (7件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/304 645 ,  H01L 21/304 648 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/68

FI (8件)：

G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/304 645 D ,  H01L 21/304 648 A ,  H01L 21/304 648 L ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 516 F ,  H01L 21/30 531 A

Fターム (27件)：

2H097BA02 ,  2H097CA15 ,  2H097LA10 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031CA07 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA02 ,  5F031GA43 ,  5F031GA47 ,  5F031HA12 ,  5F031HA45 ,  5F031HA55 ,  5F031JA01 ,  5F031JA32 ,  5F031MA04 ,  5F031MA07 ,  5F031MA27 ,  5F031NA05 ,  5F031NA07 ,  5F031PA07 ,  5F031PA13 ,  5F046AA22 ,  5F046GA07