特許
J-GLOBAL ID:200903017355663936
脱硫脱硝方法
発明者:
,
,
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
岡部 正夫 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-135798
公開番号(公開出願番号):特開平7-068132
出願日: 1990年07月30日
公開日(公表日): 1995年03月14日
要約:
【要約】【構成】 硫黄酸化物及び窒素酸化物を含む排ガスから該硫黄酸化物及び窒素酸化物を除去するための脱硫脱硝方法において、該排ガスを液相連続型のガス吸収装置を用いる石灰-石膏法で脱硫処理した後、選択接触還元法(ただしマグネシウムシリケート系の触媒担体に活性金属を担持させた脱硝触媒を用いるものを除く)で脱硝処理する。【効果】 脱硝装置に流入する排ガス中の粉塵粒子の量が少ないので、粒状の触媒を用いても粉塵の堆積による装置の閉塞はほとんどない。また、脱硫処理が先行するため、触媒担体がチタニア系など特定の材質のものに限定されず、低温でも脱硝効率の高いものを用いることができる。
請求項(抜粋):
硫黄酸化物及び窒素酸化物を含む排ガスから該硫黄酸化物及び窒素酸化物を除去するための脱硫脱硝方法において、該排ガスを液相連続型のガス吸収装置を用いる石灰-石膏法で脱硫処理した後、選択接触還元法(ただしマグネシウムシリケート系の触媒担体に活性金属を担持させた脱硝触媒を用いるものを除く)で脱硝処理することを特徴とする方法。
IPC (13件):
B01D 53/94
, B01D 53/18 ZAB
, B01D 53/34 ZAB
, B01D 53/50
, B01D 53/77
, B01D 53/56
, B01D 53/86 ZAB
, B01J 21/16 ZAB
, B01J 23/22 ZAB
, B01J 23/24 ZAB
, B01J 23/34 ZAB
, B01J 23/74 ZAB
, B01J 29/16 ZAB
FI (6件):
B01D 53/36 101 Z
, B01D 53/34 ZAB
, B01D 53/34 125 E
, B01D 53/34 129 B
, B01D 53/36 ZAB
, B01D 53/36 102 D
引用特許:
前のページに戻る