投影光学系の製造方法、投影露光装置および半導体装置の製造方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-211059
公開番号（公開出願番号）：特開平10-154657
出願日： 1997年08月05日
公開日（公表日）： 1998年06月09日
要約：

【要約】【課題】高次の収差成分が除去し得る投影光学系の製造方法、マスクパターンを感光性基板に良好に投影露光し得る投影露光装置、さらにはより高い集積度を持つ半導体素子を始めとした各種の素子の製造方法の提供にある。【解決手段】複数の光学部材を用いて投影光学系を組み立てるに先立って計測された複数の光学部材の光学面の形状に関する情報と、その複数の光学部材を用いて投影光学系を組み立て中または組み立て後に前記複数の光学部材の配置に関する情報とを用いて、投影光学系に残存する収差を除去する非球面を前記複数の光学部材に形成する。

請求項（抜粋）：

第1物体の像を第2物体上へ投影するための投影光学系の製造方法において、前記投影光学系を構成すべき複数の光学部材を製造する第1工程と、該第1工程によって製造された複数の光学部材の光学面の面形状をそれぞれ計測する第2工程と、前記第1工程にて製造された前記複数の光学部材を用いて投影光学系を組み立てる第3工程と、該第3工程後にて前記投影光学系に残存する収差を計測するための第4工程と、該第4工程によって計測された収差を補正するために前記投影光学系を調整すると共に、該調整中又は調整完了時での前記投影光学系を構成する前記複数の光学部材間の光学面の間隔を求める第5工程と、前記第5工程後にて前記投影光学系に残存する高次の収差を計測する第6工程と、前記第2工程にて得られた各光学部材の面形状の情報と、前記第5工程にて得られた前記複数の光学部材間の光学面の間隔の情報と、前記投影光学系の光学設計情報とに基づいて、前記第6工程にて得られた残存する高次収差量を補正する非球面を前記複数の光学部材の少なくとも1つに形成する第7工程とを有することを特徴とする投影光学系の製造方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G02B 27/18 , G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 515 D , G02B 27/18 A , G03F 7/20 521

引用特許：

審査官引用 (7件)

投影光学装置の調整方法及び露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-009687 出願人：株式会社ニコン
投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-194930 出願人：株式会社ニコン
投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-247268 出願人：株式会社ニコン

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