特許

J-GLOBAL ID：200903017385131300

シラシクロヘキサン化合物、その製造方法及びこれを含有する液晶組成物

発明者： 清水 孝明 ,  荻原 勤 ,  金生 剛 ,  金子 達志 ,  斎藤 隆一 ,  栗原 英志
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： ▲高▼野 俊彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-150470
公開番号（公開出願番号）：特開平7-070148
出願日： 1994年06月08日
公開日（公表日）： 1995年03月14日
要約：

【要約】【目的】 シラシクロヘキサン環を有する液晶化合物を提供する。【構成】 下記一般式(I)で表されるシラシクロヘキサン化合物。式中において、Rは水素、炭素数1〜10の直鎖状アルキル基、炭素数3〜8の分枝鎖状アルキル基、炭素数2〜7のアルコキシアルキル基又は炭素数2〜8のアルケニル基を表す。は、少なくともいずれか一方は1又は4位のケイ素がH、F、Cl又はCH3の置換基を持つトランス-1-シラシクロヘキシレン又はトランス-4-シラシクロヘキシレン基で、他方はトランス-1、4-シクロヘキシレン基を表す。Xは、CN、F、Cl、CF3、CF2Cl、CHFCl、OCF3、OCHF2、OCF2Cl、OCHFCl、R又はOR基を表す。

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)で表されるシラシクロヘキサン化合物。【化1】式中において、Rは水素、炭素数1〜10の直鎖状アルキル基、炭素数3〜8の分枝鎖状アルキル基、炭素数2〜7のアルコキシアルキル基又は炭素数2〜8のアルケニル基を表す。【化2】及び【化3】は、少なくともいずれか一方は1又は4位のケイ素がH、F、Cl又はCH3の置換基を持つトランス-1-シラシクロヘキシレン又はトランス-4-シラシクロヘキシレン基で、他方はトランス-1、4-シクロヘキシレン基を表す。Xは、CN、F、Cl、CF3、CF2Cl、CHFCl、OCF3、OCHF2、OCF2Cl、OCHFCl、R又はOR基を表す。YはH又はFを表す。ZはH又はFを表す。

IPC (4件)：

C07F 7/08 ,  C07F 7/12 ,  C09K 19/40 ,  G02F 1/13 500