特許

J-GLOBAL ID：200903017385298990

基板吸着固定台及びそれを用いた露光装置

発明者： 小林 誠一郎 ,  松田 安司 ,  小柳 好一 ,  本田 照王
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立東京エレクトロニクス株式会社
代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-352532
公開番号（公開出願番号）：特開2003-152061
出願日： 2001年11月19日
公開日（公表日）： 2003年05月23日
要約：

【要約】【課題】 基板吸着固定台に吸着保持された半導体ウェーハの裏面の異物の影響と、裏面の凹凸の影響を同時に改善することを目的とした基板吸着固定台を提供する。【解決手段】 外周壁12に囲まれた吸引室13を負圧にすることによって支持ピン15に支持された半導体ウェーハ11を平坦に吸着保持するための基板吸着固定台であって、支持ピン15の接触面の形状の長辺17と短辺18の長さが異なり、接触率をあまり増加させずに半導体ウェーハ11の裏面の凹凸の周期よりも長い長辺17にする事により、半導体ウェーハ11の裏面の異物と半導体ウェーハ11の裏面の凹凸のどちらに対しても影響を受けにくいことを特徴とする基板吸着固定台。

請求項（抜粋）：

基板を真空吸着する固定台において、基板に接触する作用点の面積比率を2%以下であり、作用点の面形状が長方形であり、長方形の長辺の距離が0.3mm以上で0.8mm以下であり、短辺の距離が0.05mm以上で0.3mm以下であり、長辺が短辺の1.2倍以上である支持ピンを有する基板吸着固定台。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  B24B 37/04 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

H01L 21/68 P ,  B24B 37/04 H ,  H01L 21/30 503 C

Fターム (16件)：

3C058AA01 ,  3C058AB04 ,  3C058CA01 ,  3C058CB01 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031HA08 ,  5F031HA13 ,  5F031MA22 ,  5F031MA27 ,  5F031PA14 ,  5F046CC08 ,  5F046CC10