特許
J-GLOBAL ID：200903017400418409
光干渉断層装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人快友国際特許事務所
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2005006789
公開番号（公開出願番号）：WO2006-022045
出願日： 2005年04月06日
公開日（公表日）： 2006年03月02日
要約：
本発明は、被検査物の2次元又は3次元断層情報から「位置-層厚」グラフを表示する際に、直感的に被検査物のどの部位で層厚が厚く(又は薄く)なっているかを把握することを可能とする。 本発明の光干渉断層装置では、例えば、照射光を被検査物の表面でライン状に走査することで取得される被検査物の2次元断層情報に基づいて、被検査物を構成する少なくとも1つの層について、走査ライン上の各位置の層厚を算出する。次いで、走査ライン上の位置を表す軸線を走査ラインの形状と相似する形状で表示し、算出された層厚を前記軸線からその法線方向に所定のスケールでプロットする。【選択図】 図8
請求項（抜粋）：
1又は複数の層から構成される被検査物に光を照射し、被検査物の各層で反射される反射光と基準光とを干渉させ、その干渉光の強度を検出することで被検査物の深さ方向の1次元断層情報を取得する光干渉断層計と、
光干渉断層計による照射光を被検査物の表面でライン状又は面状に走査することで取得される被検査物の2次元又は3次元断層情報に基づいて、被検査物を構成する少なくとも1つの層について、被検査物の表面に設定された設定ライン上の各位置における層厚を算出する手段と、
設定ライン上の位置を表す軸線を設定ラインの形状と相似する形状で表示し、算出された層厚を前記軸線からその法線方向に所定のスケールでプロットした「位置-層厚」の関係を示すグラフを出力する手段と、を備えることを特徴とする光干渉断層装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N21/17 620
, G01N21/35
2G059AA06
, 2G059BB12
, 2G059CC16
, 2G059EE02
, 2G059EE09
, 2G059FF02
, 2G059GG01
, 2G059HH01
, 2G059HH02
, 2G059JJ07
, 2G059JJ13
, 2G059JJ17
, 2G059JJ22
, 2G059KK01
, 2G059KK04
