特許
J-GLOBAL ID:200903017411931833

研磨液組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 細田 芳徳
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-336416
公開番号(公開出願番号):特開2000-160142
出願日: 1998年11月27日
公開日(公表日): 2000年06月13日
要約:
【要約】【課題】被研磨物の表面に表面欠陥を生じさせること無く、研磨速度が向上し、且つ、表面粗さを低減し得る研磨液組成物及び被研磨基板の研磨方法を提供すること。【解決手段】キレート性化合物又はその塩と、多価アルコール化合物の部分エステル化物及び/又は部分エーテル化物と、水とを含有してなる研磨液組成物、さらに研磨材を含有してなる該研磨液組成物、並びに該研磨液組成物を用いて被研磨基板を研磨する被研磨基板の研磨方法。
請求項(抜粋):
キレート性化合物又はその塩と、多価アルコール化合物の部分エステル化物及び/又は部分エーテル化物と、水とを含有してなる研磨液組成物。
IPC (4件):
C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14 ,  B24B 37/00 ,  H01L 21/304 622
FI (4件):
C09K 3/14 550 M ,  C09K 3/14 550 Z ,  B24B 37/00 H ,  H01L 21/304 622 C
Fターム (8件):
3C058AA06 ,  3C058AA07 ,  3C058AC04 ,  3C058CA05 ,  3C058CA06 ,  3C058CB01 ,  3C058CB03 ,  3C058DA02
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 特開昭59-018782

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