特許

J-GLOBAL ID：200903017411989025

搬送処理装置

発明者： 新山 喜三郎
出願人/特許権者： 東京化工機株式会社
代理人 (1件)： 合志 元延
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-337509
公開番号（公開出願番号）：特開平10-158866
出願日： 1996年12月03日
公開日（公表日）： 1998年06月16日
要約：

【要約】【課題】 第1に、液溜まりの発生が防止され、第2に、回路形成面に搬送ローラーが接触せず、第3に、しかもこれらが簡単容易に実現され、第4に、極めて均一に薬液等が噴射され、第5に、工程間の液体の混り合いも防止される、搬送処理装置を提案する。【解決手段】 この搬送処理装置11は、基板の表面に回路が形成された薄いパネルEの製造工程で用いられ、パネルEを搬送しつつ薬液処理や水洗処理が行われる。そして、パネルEを垂直から若干傾斜させ、表面の回路形成面Dを上に裏面Pを下に向けて、搬送装置12にて裏面Pと下端Qを保持しつつ、スプレーノズル13から薬液や水等を噴射される。スプレーノズル13は、上下に傾斜して配列され首振り動作を行う。又、上下流の両搬送処理装置11間には、上下流に向けそれぞれエアーを噴射するスリット状のエアーノズルが介装されている。

請求項（抜粋）：

基板の表面に回路が形成された薄いパネルの製造工程で用いられ、該パネルを搬送しつつ薬液等の液体による処理を行う搬送処理装置であって、該パネルを、表面の回路形成面を上に裏面を下に向けて傾斜せしめると共に、該裏面および下端を保持して搬送する搬送装置と、搬送される該パネルの回路形成面に対向位置し、該液体を噴射して所定の処理を行う多数のスプレーノズルと、を有してなること、を特徴とする搬送処理装置。

IPC (6件)：

C23F 1/08 101 ,  B65G 49/06 ,  C23G 3/00 ,  H05K 3/06 ,  H05K 3/26 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

C23F 1/08 101 ,  B65G 49/06 Z ,  C23G 3/00 A ,  H05K 3/06 Q ,  H05K 3/26 A ,  H01L 21/30 569 D