特許

J-GLOBAL ID：200903017412457752

基板処理装置

発明者： 大谷 正美
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-017118
公開番号（公開出願番号）：特開2000-216081
出願日： 1999年01月26日
公開日（公表日）： 2000年08月04日
要約：

【要約】【課題】 外部から搬入された基板の回転基準部の向きを所定の方向に揃えることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】 基板処理装置内の回転式塗布ユニットSCで処理された基板100は露光装置STに搬出され、露光処理後、基板処理装置内に搬入される。搬入された基板100がカメラで撮像され、搬出前のオリフラ部100aの方向を基準として搬入後のオリフラ部100aの振れ角が算出される。回転式現像ユニットSDにおいて、振れ角に基づいてオリフラ部100aが搬出前の向きと一致するように回転停止位置が制御される。

請求項（抜粋）：

回転基準部を有する基板に対してそれぞれ所定の処理を行う複数の基板処理部と、前記複数の基板処理部の各々に基板を搬送するとともに、外部に対して基板の搬出および搬入を行う基板搬送手段と、前記基板搬送手段により外部から搬入された基板を撮像する撮像手段と、前記撮像手段により得られた画像に基づいて外部への搬出時を基準とする外部からの搬入時の基板の回転基準部の回転角度を算出する画像処理手段と、前記画像処理手段により得られた回転基準部の回転角度に基づいて基板の回転基準部が所定の方向を向くように基板を回転させる回転手段とを備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/68

FI (4件)：

H01L 21/30 564 C ,  H01L 21/68 M ,  H01L 21/30 502 J ,  H01L 21/30 569 D

Fターム (21件)：

5F031DA17 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031GA48 ,  5F031JA04 ,  5F031JA34 ,  5F031JA35 ,  5F031LA07 ,  5F031MA03 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05 ,  5F046CD06 ,  5F046HA01 ,  5F046JA13 ,  5F046JA22 ,  5F046JA27 ,  5F046LA01 ,  5F046LA14 ,  5F046LA18