特許
J-GLOBAL ID：200903017425481695
垂直磁気記録媒体及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 勇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-003310
公開番号（公開出願番号）：特開平11-203654
出願日： 1998年01月09日
公開日（公表日）： 1999年07月30日
要約：
【要約】【課題】 媒体ノイズの低下及び再生出力電圧の記録密度依存性の向上を図る。【解決手段】 垂直磁気記録媒体10は、基板12上に、Cr膜14、下地軟磁性膜16、垂直磁化膜18がこの順に形成されたものである。Cr膜14の膜厚tは、1nmをこえ17nm未満、好ましくは2nm以上かつ15nm以下である。このような膜厚tを有するCr膜14は、表面平滑性に極めて優れている。そのため、Cr膜14上に積層される下地軟磁性膜16も、Cr膜14の表面平滑性を反映して、表面平滑性に極めて優れたものとなる。したがって、下地軟磁性膜16の滑らかな表面上に積層される垂直磁化膜18は、初期層の膜厚が小さくなるので、媒体ノイズが低下する。
請求項（抜粋）：
下地軟磁性膜と垂直磁化膜とがこの順に基板上に形成された垂直磁気記録媒体において、前記基板と前記下地軟磁性膜との間に、1nmをこえ17nm未満の膜厚を有するCr膜が挿入されたことを特徴とする垂直磁気記録媒体。
IPC (3件)：
G11B 5/66
, G11B 5/84
, G11B 5/85
G11B 5/66
, G11B 5/84
, G11B 5/85 C
