特許

J-GLOBAL ID：200903017427286555

情報記憶媒体用ガラスセラミック基板

発明者： 後藤直雪
出願人/特許権者： 株式会社オハラ
代理人 (1件)： 坂本 徹 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-108571
公開番号（公開出願番号）：特開平11-016151
出願日： 1998年04月03日
公開日（公表日）： 1999年01月22日
要約：

【要約】【課題】 ランディング領域においては、磁気ヘッドの安定浮上を可能とし、データ領域(ランプローディング方式も含む)においては、高記録密度化に対応した低浮上化もしくは接触状態での磁気信号の入出力を可能にする良好な表面特性を兼ね備えた、磁気情報記憶媒体用ガラスセラミック基板を提供する【解決手段】 主結晶相が、二珪酸リチウム(Li2O・2SiO2),α-クォーツ(α-SiO2),α-クォーツ固溶体(α-SiO2固溶体),α-クリストバライト(α-SiO2)および、α-クリストバライト固溶体(α-SiO2固溶体)の中から選ばれる少なくとも1種以上であり、-50〜+70°Cにおける熱膨張係数が+65〜+130×10-7/°Cであり、研磨加工後の表面粗さ(Ra)が3〜9Åであることを特徴とする、情報記憶媒体用ガラスセラミック基板。

請求項（抜粋）：

主結晶相が、α-クォーツ(α-SiO2),α-クォーツ固溶体(α-SiO2固溶体),α-クリストバライト(α-SiO2)およびα-クリストバライト固溶体(α-SiO2固溶体)の中から選ばれる少なくとも1種以上および二珪酸リチウム(Li2O・2SiO2)であり、-50〜+70°Cにおける熱膨張係数が+65〜+130×10-7/°Cであり、研磨加工後の表面粗さ(Ra)が3〜9Åであることを特徴とする、情報記憶媒体用ガラスセラミック基板。

IPC (4件)：

G11B 5/66 ,  C03C 3/097 ,  G11B 5/84 ,  B23K 26/00

FI (4件)：

G11B 5/66 ,  C03C 3/097 ,  G11B 5/84 A ,  B23K 26/00 E