特許
J-GLOBAL ID：200903017428428078

インライン式真空処理装置

発明者：
今村 俊一

今村 俊一 について

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増田 行男

増田 行男 について

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吉瀬 寿彦

吉瀬 寿彦 について

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高橋 正行

高橋 正行 について


出願人/特許権者：
株式会社アルバック

株式会社アルバック について


代理人 (1件)： 飯阪 泰雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-011803
公開番号（公開出願番号）：特開2005-206852
出願日： 2004年01月20日
公開日（公表日）： 2005年08月04日
要約：
【課題】 既存装置の構成に大幅な変更を加えることなく生産性を高め生産量を増大させることが可能なインライン式真空処理装置を提供すること。【解決手段】 連接された真空処理室11〜17を搬送方向に仕切って分割処理室11a〜17a、および分割処理室11b〜17bを設け、それぞれにガラス基板Sを保持するキャリアCを搬送させる。真空処理室の下流端にはアンロードロック室10c、10dを介して一列化回転機構18を設けて二列のキャリアCを一列化させてキャリアCのリターンライン7を大気圧下に搬送し、真空処理室の上流端に設けられたロードロック室10a、10bへ二列化回転機構8を介して搬入する。そしてリターンライン7の途中に基板着脱ステージ30を設けて真空処理済みのガラス基板SをキャリアCから取り外し、空になったキャリアCに未処理のガラス基板Sを取り付ける【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
複数の真空処理室が連接されており、基板を保持する複数のキャリアが順次搬送されて前記基板を連続的に真空処理するインライン式真空処理装置において、 連接された前記真空処理室のそれぞれが連接の方向に平行に設けられた仕切り壁によって仕切られて複数列の連接された分割処理室を形成して、前記キャリアの搬送路を備え、真空処理手段を大気側の側壁に備えており、 前記キャリアが前記基板の処理面を前記真空処理手段側へ向けて前記複数列の分割処理室を同一方向へ搬送されるか、または前記複数列の半数は正方向に搬送され他の半数は逆方向へ搬送され、 前記分割処理室それぞれの上流側には未処理の前記基板を保持する前記キャリアを大気圧側から上流端の前記分割処理室へ搬入するためのロードロック室が接続され、下流側には真空処理された前記基板を保持する前記キャリアを下流端の前記分割処理室から大気圧側へ搬出するためのアンロードロック室が接続されており、 かつ、前記アンロードロック室から前記ロードロック室へ前記キャリアを戻して循環させるキャリア循環機構が設けられており、前記キャリア循環機構に、真空処理された前記基板を前記キャリアから取り外し、空となった前記キャリアに未処理の基板をセットする基板着脱ステージが配置されている ことを特徴とするインライン式真空処理装置。
IPC (1件)：
C23C14/56
FI (1件)：
C23C14/56 G
Fターム (8件)：
4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA45 ,  4K029BC09 ,  4K029CA05 ,  4K029KA02 ,  4K029KA03 ,  4K029KA09
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (4件)
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