特許
J-GLOBAL ID:200903017430362890
干渉計においてビームのウォークオフを取り除くためのコンパクトなビームリトレース光学系
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
古谷 聡 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-112406
公開番号(公開出願番号):特開2003-315008
出願日: 2003年04月17日
公開日(公表日): 2003年11月06日
要約:
【要約】【課題】干渉計においてウォークオフを低減又は排除するための、より効率的でより簡素なシステム及び方法を提供すること。【解決手段】多軸干渉計(1000,1100)は、干渉光学系を通る第1回目の通過のために合成ヒ ゙ーム(IN0)を使用する。干渉光学系を出射する合成ヒ ゙ーム(OUT0)の測定成分と基準成分は、測定反射器(160)又は基準反射器(130)の位置ずれに起因するウォークオフを受ける。リターン反射器(410)と非偏光ヒ ゙ームスフ ゚リッタシステム(1010)が、干渉計(1000,1100)の種々の軸に関して合成ヒ ゙ーム(OUT0)を分離入力ヒ ゙ーム(IN1,IN2,IN3)へと分割し、干渉光学系を通るそれぞれの第2回目の通過のために分離ヒ ゙ームを戻す。干渉光学系における分離ヒ ゙ーム(IN1,IN2,IN3)に対するウォークオフは、合成ヒ ゙ーム(IN0)に対するウォークオフを相殺して、分離出力ヒ ゙ーム(OUT1,OUT2,OUT3)のウォークオフを除去する。
請求項(抜粋):
干渉計であって、入力ビーム(IN0)を基準ビームと測定ビームに分割し、測定される物体上の測定反射器(130)から少なくとも1回反射するために前記測定ビームを導く光学系(110)であって、その光学系(110)が、前記基準ビームと測定ビームを合成ビーム(OUT0)へと再合成し、その合成ビームにおいて前記基準ビームと測定ビームが平行ではあるが、前記測定反射器(130)のアライメントに依存するウォークオフにさらされる、光学系と、ビームスプリッタシステム(1010)と、及び前記合成ビーム(OUT0)を受光して、前記合成ビーム(IN0’)を前記ビームスプリッタシステムへ導くように配置されたリターン反射器(410)とからなり、前記ビームスプリッタシステム(1010)が前記合成ビーム(IN0’)を複数の分離ビーム(IN1、IN2、IN3)へ分割し、これらの分離ビーム(IN1、IN2、IN3)を前記光学系(110)へ導き、前記光学系(110)が各分離ビーム(IN1、IN2、IN3)を分離基準ビームと分離測定ビームに分割し、前記測定反射器(130)から少なくとも1回反射するために各分離測定ビームを導き、各分離ビームについて前記光学系が前記分離基準ビームと分離測定ビームを再合成し、前記分離基準ビームと分離測定ビームとが同一直線上にある併合ビーム(OUT1、OUT2、又はOUT3)を形成する、干渉計。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (12件):
2F064AA15
, 2F064FF01
, 2F064GG13
, 2F064GG16
, 2F064GG22
, 2F064GG23
, 2F064GG33
, 2F064GG38
, 2H042CA04
, 2H042CA09
, 2H042CA12
, 2H042CA17
引用特許:
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (4件)