処理液の仕込み装置及び感光材料処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中島淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-089211
公開番号（公開出願番号）：特開2000-284501
出願日： 1999年03月30日
公開日（公表日）： 2000年10月13日
要約：

【要約】【課題】無駄なく所望の希釈比となるように処理液を仕込む。【解決手段】自動モードでの処理液の仕込みが選択されると、現像槽内が空か否かを確認し、現像槽が空であるときには、原液が投入された後に、希釈水の供給及び攪拌、温調を行う。また、洗浄槽へ給水を行うと共に、フィニッシャー槽へは、給水しながら希釈比に応じて間欠的に原液を供給する(ステップ300〜34)。これに対して、現像槽への仕込みが終了し、洗浄槽及びフィニッシャー槽への仕込みが行われていないときには、洗浄槽及びフィニッシャー槽への仕込みを行い(ステップ338)、既に仕込みが行われているときには、個々に仕込みが終了しているか否かを確認する(ステップ340〜346)。

請求項（抜粋）：

複数の処理槽のそれぞれに貯留した処理液によって感光材料を処理する感光材料処理装置に用いられ、前記処理槽で処理液の原液を希釈液によって所定の比率で希釈して仕込み液を調液する処理液の仕込み装置であって、前記処理槽に所定量の処理液の原液を供給する原液供給手段と、前記処理槽に前記処理液の原液を予め設定される希釈比で希釈する希釈液を供給する給液手段と、前記複数の処理槽の中から仕込み液を調液する処理槽が選択され、前記選択された処理槽に対して設けられている前記給液手段及び前記原液供給手段の作動を制御して処理液の仕込みを行う仕込み制御手段と、を含むことを特徴とする処理液の仕込み装置。

IPC (2件)：

G03F 7/30 501 , G03D 3/06

FI (2件)：

G03F 7/30 501 , G03D 3/06 A

Fターム (7件)：

2H096AA07 , 2H096GA22 , 2H096GA23 , 2H096GA25 , 2H098BA05 , 2H098BA15 , 2H098BA16

引用特許：

審査官引用 (10件)

特開平2-052343
特開平3-107168
特開平3-039960

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