特許
J-GLOBAL ID：200903017431791540
超薄膜積層体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
小倉 亘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-143298
公開番号（公開出願番号）：特開平5-310960
出願日： 1992年05月08日
公開日（公表日）： 1993年11月22日
要約：
【要約】【目的】 両親媒性化合物の二分子膜構造がもつ分子レベルでの規則性を利用して、単位層厚みが分子レベルであり、各層が互いに交錯することのない超薄膜積層体を得る。【構成】 二分子膜形成能を有する両親媒性化合物の分散液を基板上に展開し、溶媒を蒸発させることにより、両親媒性化合物の多層二分子膜薄膜を作製する。この多層二分子膜薄膜をラジカル重合性モノマーを含む溶液に接触させ、薄膜内にモノマーを導入する。次いで、モノマーを重合させた後、両親媒性化合物を抽出することにより、超薄膜積層構造をもつポリマーフィルムを得る。【効果】 多層二分子膜薄膜の作製工程及びモノマーの導入工程を別個にすることにより、両親媒性物質が形成するラメラ構造を壊すことなくモノマーを薄膜内に導入することができ、極めて規則性に優れ異方性のあるポリマーフィルムが得られる。
請求項（抜粋）：
二分子膜形成能を有する両親媒性化合物の分散液を基板上に展開し、前記分散液の溶媒を蒸発して得られた前記両親媒性化合物の多層二分子膜薄膜をラジカル重合性モノマーを含む溶液に接触させ、前記薄膜内に導入された前記モノマーを重合させた後、前記両親媒性化合物を抽出することを特徴とする超薄膜積層体の製造方法。
IPC (2件)：
C08J 5/18
, C08F 2/00 MCT
