特許
J-GLOBAL ID:200903017432596538

電子線描画装置及び電子線描画方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-199712
公開番号(公開出願番号):特開平5-047644
出願日: 1991年08月09日
公開日(公表日): 1993年02月26日
要約:
【要約】【目的】 補正ショットとショットとのつなぎ目でドーズに不連続が出ないようにする。補正データを計算するのに長い時間を必要とせず、補正描画の時間を短くする。【構成】 電子光学系は電子銃1と試料16との間に3段の描画用アパーチャ3,7,9を備えている。2段目又は3段目の描画用アパーチャのいずれかに対応する補正描画用のアパーチャ10を前記2段目又は3段目の描画用アパーチャとは別に上下方向にその位置を所定距離ずらして設けてある。
請求項(抜粋):
所定のパターンを描画する前又は後に補正描画を行う電子線描画装置において、電子光学系は電子線出射装置と試料との間に3段の描画用アパーチャを備えており、2段目又は3段目の描画用アパーチャのいずれかに対応する補正描画用のアパーチャを前記2段目又は3段目の描画用アパーチャとは別に該描画用アパーチャから前記電子線出射装置側又は前記試料側に所定距離ずらして設けてあることを特徴とする電子線描画装置。

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