特許
J-GLOBAL ID：200903017449889750
フツ素系ガスの処理法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-270783
公開番号（公開出願番号）：特開平5-103945
出願日： 1991年10月18日
公開日（公表日）： 1993年04月27日
要約：
【要約】【目的】 種々の化学プロセスにおいて使用される、あるいは生成するフッ素系ガスのうち、未処理のまま排出されるフッ素系ガスを無害化処理することを目的とする。【構成】 被処理ガスを、無電極形式の高周波放電を用いることにより、フッ素系ガスによる電極損傷を全く受けることなく、無害化処理するものである。
請求項（抜粋）：
フッ素系ガスを含むガスを無電極形式の高周波放電により、分解することを特徴とするフッ素系ガスの処理法。
IPC (2件)：
B01D 53/32
, B01D 53/34 134
