特許

J-GLOBAL ID：200903017450404123

パターン認識方法および装置並びにそれが使用されたパターン読取装置

発明者： 山谷 和弘 ,  長井 晴夫 ,  宮崎 功 ,  赤岩 正康
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立東京エレクトロニクス株式会社
代理人 (1件)： 梶原 辰也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-123428
公開番号（公開出願番号）：特開平6-309435
出願日： 1993年04月26日
公開日（公表日）： 1994年11月04日
要約：

【要約】【目的】 辞書パターンの作成管理を容易にし、パターン認識を高速化する。【構成】 辞書パターンとして標準パターン51、52、53・・・が予め登録されたメモリー41と、各標準パターンの画素がずらされて変形パターン51a、51b・・・が生成される変形パターン生成手段43とを備え、標準パターン51と被認識パターン50とが不一致であった場合に、変形パターン生成手段43において生成された変形パターン51a、51b・・・と、被認識パターン50とが照合されて被認識パターン50が認識される。【効果】 メモリー41に登録された標準パターン51、52、53・・・を変形して、多種多様に変形した被認識パターン50を全て認識できるため、メモリー41に登録しておくパターンの数を低減でき、辞書パターンの作成管理を簡単化でき、パターン認識時間を短縮できる。

請求項（抜粋）：

被認識パターンと、予め登録されている辞書パターンとを照合することにより、被認識パターンを認識するパターン認識方法において、前記辞書パターンについて標準パターンが予め登録されており、前記照合に際して、この標準パターンと被認識パターンとが不一致であった場合に、標準パターンの画素がずらされて変形パターンが生成され、この変形パターンと前記被認識パターンとが照合されることにより、前記被認識パターンが認識されることを特徴とするパターン認識方法。

IPC (4件)：

G06F 15/62 405 ,  G01B 11/24 ,  G06K 9/62 ,  H01L 21/02