特許
J-GLOBAL ID：200903017452880224
真空処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 幸彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-070610
公開番号（公開出願番号）：特開平5-269361
出願日： 1992年03月27日
公開日（公表日）： 1993年10月19日
要約：
【要約】【目的】実行排気速度の向上を図る。【構成】真空処理室内に処理ガスを導入する手段、ガス流量を調節する手段、ガスを真空処理室外に排気する手段を有し、真空処理室内に設置された試料を導入ガスを用いて処理する真空処理装置において、排気手段は、試料の中心に鉛直な方向に排気ポンプの吸込口寸法より大きく延長した真空室を有し、且つ試料被処理面とは反対側に排気口を有し、該排気口寸法を排気ポンプ吸入口寸法とほぼ等しいかそれ以上とする。
請求項（抜粋）：
真空処理室内に処理ガスを導入する手段、ガス流量を調節する手段、ガスを真空処理室外に排気する手段を有し、真空処理室内に設置された試料を導入ガスを用いて処理する真空処理装置において、排気手段は、試料の中心にほぼ鉛直な方向に排気ポンプの吸込口寸法より大きく延長した真空室を有し、且つ試料被処理面とは反対側に排気口を有し、該排気口寸法は排気ポンプ吸入口寸法とほぼ等しいかそれ以上であることを特徴とする真空処理装置。
引用特許：
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