特許
J-GLOBAL ID：200903017462709221
プロセス観測装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
池田 憲保 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-142655
公開番号（公開出願番号）：特開平5-328961
出願日： 1992年06月03日
公開日（公表日）： 1993年12月14日
要約：
【要約】【目的】 プロセスをオンラインで観測する。【構成】 プロセス観測装置1は内溶液中に一部が浸漬した状態でリアクタに取り付けられる。プロセス観測装置1は、対物レンズ3と保護管4と観測窓5とを有する顕微鏡2を有する。観測窓5に対向して複数個の圧電素子6が平面的に配置されている。電圧が印加されると、圧電素子6は超音波振動を発生する。圧電素子6から発生された超音波振動は振動板7によって観測窓5に伝達する。一定方向に所定速度で流れている内溶液中の微生物や生成物を静止した状態で観察するために、振動波の伝搬速度が内溶液の流れの速度と等しく、かつ振動波の伝搬方向が内溶液の流れ方向と逆方向になるように、圧電素子6に印加する交流電圧を調節する。
請求項（抜粋）：
リアクタ内に収容された、所定方向に所定速度で流れている内溶液中の反応物質をオンラインで観測するために用いるプロセス観測装置であって、前記内溶液中に浸漬される観測窓と、該観測窓に振動波を伝搬させる複数個の圧電素子と、前記複数個の圧電素子に、前記振動波の伝搬速度が前記観測窓における前記内溶液の速度と等しく、かつ前記振動波の伝搬方向が前記内溶液の流れ方向と逆方向になるような、互いに位相の異なる交流電圧を印加する交流電圧印加手段とを有することを特徴とするプロセス観測装置。
IPC (4件)：
C12M 1/34
, C12M 1/42
, G01N 29/02
, G02B 21/00
