特許
J-GLOBAL ID：200903017462841600
薄膜の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
青山 葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-085260
公開番号（公開出願番号）：特開平8-283035
出願日： 1995年04月11日
公開日（公表日）： 1996年10月29日
要約：
【要約】【目的】 スパッタ法による安定した極めて薄い薄膜の製造方法を提供し、また、その後のリヒートプレス法による加圧成形時のひび割れ等を生じさせることなく、ガラスの変化等に対応して変形可能な柔らかくて伸びのある、除去するための酸化処理を要しない適度な密着性を有する薄膜を得る方法を提供する。【構成】 ガラス成形用のプリフォームに対する離型膜をスパッタ法により製造する方法であって、スパッタガスとしてアルゴンより低分子量のガスまたはそれらのガスとアルゴンとの混合ガスを用い、ターゲット材料にVIa族、VIII族、Ib族またはIVb族を用いるとともに、プリフォームの基板温度を100°C以下とすることを特徴とする、厚さ10〜300Åの薄膜の製造方法。
請求項（抜粋）：
ガラス成形用のプリフォームに対する離型膜をスパッタ法により製造する方法であって、スパッタガスとしてアルゴンより低分子量のガスまたはそれらのガスとアルゴンとの混合ガスを用い、ターゲット材料にVIa族、VIII族、Ib族またはIVb族を用いるとともに、該プリフォームの基板温度を100°C以下とすることを特徴とする、厚さ10〜300Åの薄膜の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C03B 40/02
, C03B 11/00 B
