特許

J-GLOBAL ID：200903017478939561

不飽和アルデヒドの製造方法

発明者： 岩崎 秀治
出願人/特許権者： 株式会社クラレ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-215681
公開番号（公開出願番号）：特開2002-030040
出願日： 2000年07月17日
公開日（公表日）： 2002年01月29日
要約：

【要約】【課題】 入手容易な原料を使用し、香料、ビタミン、農薬、医薬などの合成中間体として有用な不飽和アルデヒドを効率よく、工業的に有利に製造し得る方法を提供すること。【解決手段】 一般式(I)【化1】で示されるオレフィンと一般式(II)【化2】で示されるアセタールを一般式(V)【化3】で表されるルテニウム錯体の存在下に反応させて一般式(III)【化4】で示される不飽和アセタールを得、得られた不飽和アセタールのアセタール部分を脱保護することを特徴とする一般式(IV)【化5】で表される不飽和アルデヒドの製造方法。

請求項（抜粋）：

一般式(I)【化1】(式中、R1は水素原子または-CH2Xで示される基を表し、Xはハロゲン原子、アルコキシル基、アリールオキシ基またはアシルオキシ基を表す。)で示されるオレフィンと一般式(II)【化2】(式中、R2は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基、アラルキル基、アルコキシル基、アリール基または複素環基を表し、R3およびR4はそれぞれ独立して置換基を有していてもよいアルキル基、アラルキル基、アリール基もしくは複素環基を表すか、または一緒になって置換基を有していてもよいアルキレン基を表す。)で示されるアセタールを一般式(V)【化3】(式中、AおよびBはそれぞれ独立してルテニウムに配位可能な化合物を表し、Rはアルキル基またはアリール基を表す。)で示されるルテニウム錯体の存在下に反応させて一般式(III)【化4】(式中、X、R2、R3およびR4は前記定義のとおりである。)で示される不飽和アセタールを得、得られた不飽和アセタールのアセタール部分を脱保護することを特徴とする一般式(IV)【化5】(式中、XおよびR2は前記定義のとおりである。)で表される不飽和アルデヒドの製造方法。

IPC (4件)：

C07C 67/29 ,  C07B 61/00 300 ,  C07C 69/145 ,  C07C 69/16

FI (4件)：

C07C 67/29 ,  C07B 61/00 300 ,  C07C 69/145 ,  C07C 69/16

Fターム (11件)：

4H006AA02 ,  4H006AC23 ,  4H006AC45 ,  4H006BA23 ,  4H006BA48 ,  4H006BD70 ,  4H006BN10 ,  4H006BQ10 ,  4H006KA30 ,  4H039CA10 ,  4H039CD90