特許

J-GLOBAL ID：200903017493037043

酸化チタン膜の製造方法

発明者： 岡田 瑞穂 ,  松廣 喜久男
出願人/特許権者： 石原産業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-344391
公開番号（公開出願番号）：特開平7-002522
出願日： 1993年12月17日
公開日（公表日）： 1995年01月06日
要約：

【要約】【構成】酸化チタン粒子の懸濁液を特定のpH領域に調整して酸化チタン粒子を高度に分散させ、次いで、この懸濁液を支持体に塗布し、焼成して酸化チタン粒子を該支持体上に固着せしめることにより、酸化チタン膜を製造する。【効果】大きな比表面積を有し、クラックの発生が少なく、支持体との接着性が良好な酸化チタン膜が得られ、光学材料、電子材料、光電変換材料、装飾用材料、触媒、光触媒、触媒担体、吸着剤あるいはバイオリアクターなどに用いられる。

請求項（抜粋）：

酸化チタン粒子を分散させた懸濁液を支持体に塗布し、次いで、焼成して酸化チタン粒子を該支持体上に固着せしめることを特徴とする酸化チタン膜の製造方法。