特許

J-GLOBAL ID：200903017498258820

光造形装置及び方法

発明者： 森谷 真寿美 ,  小澤 雅彦 ,  後藤 典雄 ,  遠藤 敏朗 ,  大久保 賢勉 ,  青木 恒夫
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-224483
公開番号（公開出願番号）：特開平8-085155
出願日： 1994年09月20日
公開日（公表日）： 1996年04月02日
要約：

【要約】【目的】本発明はレーザ照射により紫外線硬化樹脂を硬化させ、硬化層を積層して立体形状モデルを作成する光造形方法および装置に関し、その目的は、積層ピッチ、レーザスポットのフォーカスおよびレーザパワ-をコントロールすることにより、寸法精度低下なしに積層数を低減させることを可能とし、高速高精度な光造形方法および装置を提供することにある。【構成】UV硬化樹脂に照射するUVレーザビームスポットのフォーカスを通常デフォーカス状態に設定し、デフォーカスのレーザビームで造形を行い、垂直壁面等において積層ピッチを大きくするときにレーザビームスポットのフォーカスをジャストフォーカス方向にシフトさせるとともに、必要に応じてレーザパワーを増大させる、という方法で光造形を行なう。

請求項（抜粋）：

UV硬化樹脂の液面を形状データに従ってレーザビームで走査し、該レーザビーム照射部位を硬化し、該硬化層を逐次積層して形状モデルを造形する光造形装置において、UV硬化樹脂の液面でレーザビームのフォーカス状態を可変にできるフォーカス制御手段およびレーザパワーを可変にできる制御手段を有し、該フォーカス制御手段によりフォーカスが積層ピッチの大小に応じて、積層ピッチが小の時ときデフォーカス状態として、積層ピッチが大の時該デフォーカス状態よりもジャストフォーカス方向にシフトするよう制御され、また該レーザパワー制御手段により必要に応じてレーザパワーを増減することを特徴とした光造形装置。

IPC (3件)：

B29C 67/00 ,  B29C 35/08 ,  B29K105:24

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 三次元形状の形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-006015   出願人：松下電工株式会社