特許
J-GLOBAL ID：200903017503389113

セルロースアシレートフイルム及びその製造方法

発明者：
椋木 康雄

椋木 康雄 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 小林 和憲
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-069160
公開番号（公開出願番号）：特開2002-265636
出願日： 2001年03月12日
公開日（公表日）： 2002年09月18日
要約：
【要約】【課題】 塩素を含有しない溶媒を用いてセルロースアシレートフイルムを製膜する。【解決手段】 酢酸メチルが主溶媒である溶媒にセルロースアシレートを溶解してドープを調製する。ドープを金属支持体上に流延して乾燥し、フイルムを作成する。塩化メチレンを溶媒に用いて製膜したフイルムと同等の光学的特性が得られ、偏光板用保護フイルムとして使用可能になる。酢酸メチルは塩素を含有しない溶媒であるため、人体や環境への影響の低減を図ることができる。
請求項（抜粋）：
セルロースの水酸基への置換度が下記式(I) 〜(III)の全てを満足するセルロースアシレートと、炭素原子数が3〜12のエーテル類、炭素原子数が3〜12のケトン類および炭素原子数が3〜12のエステル類から選ばれる非塩素系有機溶媒と、からなるセルロースアシレート溶液を用いることを特徴とするセルロースアシレートフイルムの製造方法。(I) 2.6≦A+B≦3.0(II) 2.0≦A≦3.0(III) 0≦B≦0.8但し、式中A及びBはセルロースの水酸基に置換されているアシル基の置換基を表し、Aはアセチル基の置換度、またBは炭素原子数3〜22のアシル基の置換度である。
IPC (5件)：
C08J 5/18 CEP ,  B29C 41/24 ,  B29K 1:00 ,  B29L 7:00 ,  C08L 1:10
FI (5件)：
C08J 5/18 CEP ,  B29C 41/24 ,  B29K 1:00 ,  B29L 7:00 ,  C08L 1:10
Fターム (15件)：
4F071AA09 ,  4F071AC06 ,  4F071AC07 ,  4F071AC10 ,  4F071AF05 ,  4F071BA02 ,  4F071BB02 ,  4F071BC01 ,  4F205AA01A ,  4F205AG01 ,  4F205GA07 ,  4F205GB02 ,  4F205GC02 ,  4F205GC07 ,  4F205GE22
引用特許：
審査官引用 (5件)
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