特許

J-GLOBAL ID：200903017529590283

セルレイアウト設計方法及び装置並びにLSIレイアウト設計方法及び装置

発明者： 高橋 守 ,  本田 孝一 ,  澤田 豊治
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 石川 泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-146351
公開番号（公開出願番号）：特開平8-339392
出願日： 1995年06月13日
公開日（公表日）： 1996年12月24日
要約：

【要約】【目的】 セルを構成する拡散層とは逆特性の補助拡散層と電源層又は接地層とを導通させる基板コンタクトの配置を自動的に設定可能なセルレイアウト設計方法及び装置並びにLSIレイアウト設計方法及び装置を提供する。【構成】 入力されたセルの設計データ及び予め設定された基板コンタクトの大きさを示す基板コンタクトデータに基づき、補助拡散層領域内における基板コンタクトを配置することが可能な少なくとも一の基板コンタクト配置領域を検索し、検索された基板コンタクト配置領域に対応して補助拡散層領域内に基板コンタクトを配置するための基板コンタクト配置データを設計データに追加し、追加設計データを出力する(ステップS5)。更に、補助拡散層を配置するための補助拡散層配置領域も自動的に検索し、対応する補助拡散層配置データを設計データに追加する(ステップS1乃至S4)。基板コンタクト及び補助拡散層の配置設計を自動化でき、設計効率が向上する。

請求項（抜粋）：

セルを構成する拡散層の正孔密度と伝導電子密度の関係とは逆の正孔密度と伝導電子密度の関係を有する補助拡散層と電源層又は接地層とを導通させる基板コンタクトを当該補助拡散層に対応する補助拡散層領域内に配置するためのセルレイアウト設計方法において、入力された前記セルの設計データ及び予め設定された前記基板コンタクトの大きさを示す基板コンタクトデータに基づき、前記補助拡散層領域内における前記基板コンタクトを配置することが可能な少なくとも一の基板コンタクト配置領域を検索する検索工程と、検索された前記基板コンタクト配置領域に対応して前記補助拡散層領域内に前記基板コンタクトを配置するための配置データを前記設計データに追加し、追加設計データを出力するデータ追加工程と、を備えることを特徴とするセルレイアウト設計方法。